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上海马弗炉科技 单温区等离子PECVD系统

描述:MFLPECVD408-12是一款PECVD系统的管式炉系统。由真空管式炉、射频电源、供气系统、真空系统组成。 最高温度可以达到1200度,采用30段程序温控仪表,K型热电偶,炉膛为高纯氧化铝陶瓷纤维,此设备可用于生长纳米线或用CVD方法制备各种薄膜。

更新时间:2022-10-28
产品型号:MFLPECVD408-12
厂商性质:生产厂家
详情介绍
品牌马弗炉升温速度(达到最高温)120min
内部尺寸80*1200mm加热方式电阻丝电加热
最大功率3000W控温精度1℃
最高温度1200℃价格区间5万-10万
仪器种类管式炉产地类别国产
应用领域化工,电子,冶金

一、产品描述

MFLPECVD408-12是一款PECVD系统的管式炉系统。由真空管式炉、射频电源、供气系统、真空系统组成。  最高温度可以达到1200度,采用30段程序温控仪表,K型热电偶,炉膛为高纯氧化铝陶瓷纤维,此设备可用于生长纳米线或用CVD方法制备各种薄膜。



二、产品特点

  • 1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

  • 2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低

  • 3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小

  • 4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

  • 5、广泛应用于:各种薄膜的生长,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。


二、技术参数

设备型号

MFLPECVD408-12

管式炉

控温范围

室温-1200℃

工作温度

≤1100℃

加热区长度400mm
石英管
直径 80mm,长 1400mm  (管径可选 50, 60 ,100)

控温精度

<1000     ±0.1℃ ; ≥1000±1℃

恒温波动

±1℃(测试点为1000℃)

升温速度

推荐1000度以下≤10℃/min,最快升温速度≤30℃/min

降温速度

700℃以上≤10℃/min

炉表温度

炉体表面温度小于室温+10(测量点为1000℃)

测温元件K型热电偶
控温模式
模糊PID控制和自整定调节,智能化30段可编程控制,具有超温和断偶报警功能
电压功率220V  3KW

供气系统

气路通道4路
气路流量控制质子流量控制器(七星流量计)
控制精度±1.5%F.S
重复精度±0.2%F.S
流量范围1-500 SCCM
机械压力表一块机械压力表在面板,和混气灌连接量程:-0.1~0.15 Mpa

真空系统

方案一(低真空:机械泵)

电源220V
极限真空度5X10-1 Pa
抽气速率
2升/每秒
真空挡板阀 KF25
型号VRD-8
电机功率0.4KW

真空系统

方案二(高真空:机械泵+分子泵机组)

型号GZK-16-600 
电源AC100-240   50/60HZ  
功率1KW 
重量25KG 
极限压强1.0*10-4Pa
进、排气接口KF40
冷水机最大流量10L/MIN
真空计
复合真空计
真空控制精度± 1%
真空计测量范围1.0x10 -   1.0x10-5pa 

电源

(等离子体发生器)

功率输出范围
 0-500W
功率稳定度±5W
工作频率射频:13.56MHZ±0.005%
匹配方式
自动
冷却方式风冷
噪声 <50dB

安全

工作环境

RT±5-40℃

使用保障

开门断电     超温报警 漏电保护 过温保护


管式炉

一台

出厂清单

真空系统一套

供气系统

一套

射频电源

一套

高温手套

卡斯顿一双

炉勾

一把

气管

一根

设备说明书

一份

仪表说明书

一份

保修卡

一份

选购品

移动炉架

不锈钢

触摸屏智能仪表

50段编程,可实现与计算机连接。通过专用的计算机控制系统来完成与单台或多台电炉的远程控制、实时追踪、历史记录、输出报表等功能。


注:管径可选:50/60/80/100/120/150/200/300 mm  ,

       温区可以做双温区,三温区等多温区,

       请联系客服
















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