MFLPECVD408-12是一款PECVD系统的管式炉系统。由真空管式炉、射频电源、供气系统、真空系统组成。 最高温度可以达到1200度，采用30段程序温控仪表，K型热电偶，炉膛为高纯氧化铝陶瓷纤维,此设备可用于生长纳米线或用CVD方法制备各种薄膜。
MFLGM-18系列是一款最高1750℃的真空管式炉。主要针对在真空或者保护气氛下对样品的热处理
CVD系统由供气系统+管式炉+抽气系统 ，最高温度可以达到1200度、1400度、1600度、1700度，加热区间可以是单温区、双温区、三温区等，极限真空可以达到10-3Pa，供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计，混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。
MFLGK-17系列是一款最高1650℃的真空管式炉。主要针对在真空或者保护气氛下对样品的热处理，优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统，可保证实验数据的可靠性；法兰上有进气口和出气口，可通入保护气体，精密针型阀可调节进气流量。
MFLGM系列是一款最高1650℃的真空管式炉。主要针对在真空或者保护气氛下对样品的热处理，优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统，可保证实验数据的可靠性；法兰上有进气口和出气口，可通入保护气体，精密针型阀可调节进气流量。
此系列是一款最高1100℃的真空管式炉。主要针对在真空或者保护气氛下对样品的热处理，优质的炉膛材料和稳定的温度控制系统，可保证实验数据的可靠性；法兰上有进气口和出气口，可通入保护气体，精密针型阀可调节进气流量。
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